消毒柜的相關標準:
一、高溫消毒
食具消毒(du)(du)(du)柜(ju)室內的(de)(de)(de)氣溫(wen)可升高至100℃以上(二星消毒(du)(du)(du)柜(ju)要求達120℃以上),此(ci)類消毒(du)(du)(du)柜(ju)叫高溫(wen)消毒(du)(du)(du)柜(ju)。電熱器的(de)(de)(de)工(gong)作(zuo)時(shi)(shi)間受預置程序的(de)(de)(de)控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)。工(gong)作(zuo)時(shi)(shi)間內消毒(du)(du)(du)室內的(de)(de)(de)溫(wen)度受溫(wen)控(kong)(kong)系統控(kong)(kong)制(zhi)(zhi),使室內溫(wen)度≥120℃維持15~20分鐘(zhong)高溫(wen)消毒(du)(du)(du)。所以消毒(du)(du)(du)柜(ju)的(de)(de)(de)高溫(wen)消毒(du)(du)(du)工(gong)作(zuo)時(shi)(shi)間設定為30分鐘(zhong)包(bao)括冷卻時(shi)(shi)間。
二、臭氧(yang)消毒(du)、紫(zi)外線消毒(du)
食具消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)柜的(de)(de)消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)室內裝有紫(zi)外線消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)是通(tong)過紫(zi)外線發(fa)生(sheng)(sheng)管,產生(sheng)(sheng)波長(chang)為(wei)253.7nm的(de)(de)紫(zi)外線,此(ci)波長(chang)的(de)(de)紫(zi)外線易(yi)被(bei)微(wei)生(sheng)(sheng)物的(de)(de)細胞核所吸收,從而(er)(er)導致(zhi)微(wei)生(sheng)(sheng)物細胞核破(po)壞而(er)(er)死亡。(184.9μm可加速產生(sheng)(sheng)臭(chou)氧(yang))室內的(de)(de)臭(chou)氧(yang)濃度(du)一星消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)為(wei)20mg/m3(消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)時(shi)間(jian)≥30min),二星為(wei)40mg/m3(消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)時(shi)間(jian)≥60min)其泄漏量為(wei)≤ 0.2mg/m3;此(ci)類消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)柜叫低溫消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)柜。臭(chou)氧(yang)發(fa)生(sheng)(sheng)裝置的(de)(de)工作時(shi)間(jian)受(shou)預置程(cheng)序控制(zhi),所以消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)柜的(de)(de)低溫消(xiao)(xiao)毒(du)(du)(du)(du)工作時(shi)間(jian)設定為(wei)110分鐘包(bao)括烘干、冷卻及臭(chou)氧(yang)揮發(fa)的(de)(de)時(shi)間(jian)。
3、消毒柜星標準
根據(ju)標準(GB17988-2004) 規定:
消(xiao)(xiao)毒星“標志”的(de)使用(yong),用(yong)消(xiao)(xiao)毒級數表(biao)示(shi)消(xiao)(xiao)毒結果:一星消(xiao)(xiao)毒柜用(yong)“*”表(biao)示(shi);二星用(yong)“**”表(biao)示(shi);
一(yi)星、二(er)星消(xiao)毒柜消(xiao)毒共(gong)同效果:
1. 對自然菌的殺滅率(lv)應(ying)大于99.9%;
2.對大腸桿菌殺滅率應不小于99.9%;
3.對金黃色葡萄球菌殺滅率應不小于99.9%。
二星消毒柜除(chu)達到(dao)以(yi)上指(zhi)標(biao)外,還應做到(dao):
A、能(neng)殺(sha)滅(mie)脊髓灰(hui)質炎病毒。
B、帶臭(chou)氧消毒的(de)消毒柜(ju)需(xu)配備“臭(chou)氧”泄漏保(bao)護裝置。
臭氧濃度
一星消(xiao)(xiao)毒為20mg/m3(消(xiao)(xiao)毒時間≥30min)。
二星(xing)為40mg/m3(消毒時間(jian)≥60min)其泄漏量(liang)為≤ 0.2mg/m3。
電熱消毒柜消毒溫度
一星>100℃
二星>120℃
消毒時(shi)間≥15min。
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